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光刻技術:在晶圓上涂覆光刻膠后,使用紫外光照射掩模并進行曝光顯影,就可以利用光刻膠的特性,在晶圓上形成所需的微觀圖形。
但是,材料都具有熱脹冷縮的特性,在光刻過程中使用到的光刻掩模版、透鏡和晶圓同樣如此。
例如,即使是輕微的溫度變化,也會引起晶圓結構的改變,從而導致尺寸變化,影響顯影圖形的精度和可重復性。
光刻技術使用的光敏性光刻膠,其特性與溫度有關。精確的溫度控制可以使光刻膠的溫度更加均勻,能最大限度地減少涂膠過程中產生的表面缺陷,在光刻技術中至關重要。
LAUDA Microcool 和 Variocool 設備可提供涂膠過程所需的穩定溫度,并且均配置了低振動壓縮機,即使被放置在靠近工藝流程的地方,也不會產生任何負面影響。
Lauda 產品
Microcool 循環冷水機
Variocool 過程恒溫器
典型產品特征
• 溫度穩定
• 內部結構簡單,便于維修
• 低振動壓縮機
• 結構緊湊
大多數工藝是在真空環境或氣體環境中進行,需要對這些區域的溫度進行適當控制。例如,通過在不銹鋼管道或外殼上加裝水冷夾套,對其中的氣體進行溫度控制。
Lauda 產品
Ultracool 循環冷水機
Variocool 過程恒溫器
典型產品特征
• 溫度穩定
• 內部結構簡單,便于維修
• 低振動壓縮機
• 結構緊湊。
? 紫外光源的溫度控制
激光束的生成需要大量的能量,同時會生成廢熱,需要進行溫度調節。可靠的循環冷水機,如 LAUDA Ultracool 設備,可以有效防止激光模塊過熱。
Lauda 產品
Ultracool 循環冷水機
Variocool 過程恒溫器
? 聚光透鏡和光掩模的溫度控制
透鏡會吸收高功率的激光輻照,導致溫度升高,而光學元件和反射鏡會在高溫下產生變形,所以必須對其進行大幅冷卻以保持恒溫。緊湊型的LAUDA 恒溫設備可對透鏡的溫度進行控制,對精確曝光至關重要。
? 晶圓工件臺和測量系統的溫度控制
設備操作和后續發熱會影響晶圓工件臺和測量系統的精度,對其進行精確的溫度控制,可以避免產生熱膨脹,確保光刻的定位精度始終保持在納米級別。
? 真空泵的溫度控制
渦輪分子泵被廣泛用于半導體工藝的很多應用中,由旋轉葉片組成,這些葉片高速運轉,以產生高真空。高速運轉造成的摩擦會產生熱量,如果沒有適當的冷卻,可能會導致其損壞或性能下降。對真空泵進行冷卻有助于將工作溫度保持在規定的范圍內,維持所需的真空度,保證真空泵的工作效率和可靠性。
半導體制造是人類工業文明中精密程度最高的系統性工程之一,其工藝流程涉及數百道復雜工序。從硅晶圓制備、光刻顯影到薄膜沉積、離子注入,從前道工藝到后道工藝,關注 LAUDA !和我們一起逐層揭開半導體制造的溫度密碼,解析精準溫控背后的工程智慧!