托托科技無掩模光刻機特色功能介紹

托托科技推出的無掩模光刻機，以其革命性的技術革新，為微電子、集成電路等制造領域帶來了靈活性和高效率。無論是在科學研究、定制化生產、快速原型制造，還是在電子器件、生物醫藥、光學元件、微機械等眾多領域，我們的無掩模光刻機都能提供解決方案。

直接繪圖：直接繪圖為您提供靈活便捷的手段，以此來快速驗證您的想法

功能描述： 直接繪圖功能允許用戶直接在光刻設備上繪制所需圖案，無需經過復雜的軟件轉換或中間步驟。這為用戶提供了靈活便捷的實驗手段，可以快速將想法轉化為實際圖案。

應用場景：

快速原型制作： 在進行新設計或新工藝探索時，可直接在設備上繪制草圖并進行光刻，快速驗證設計的可行性，節省時間。

科研實驗： 科研人員在進行探索性實驗時，可以隨時調整圖案設計，快速進行多次迭代，提高實驗效率。

小批量定制： 對于個性化或定制化的微納結構需求，直接繪圖功能可以快速實現小批量生產。

優勢：

提高了設計靈活性，減少了設計到制造的時間。

降低了使用門檻，即使是非專業用戶也能快速上手。

技術支持：  通常需要配套的軟件支持，以及直觀的圖形化操作界面。

精準套刻：由綠光作為指引光為您提供光刻前的對準預覽，以此來實現精準套刻

功能描述： 精準套刻功能利用綠光作為指引光，在進行光刻前提供對準預覽。綠光與實際曝光光源（通常是紫外光）具有不同的波長，因此不會對光刻膠產生曝光影響，同時人眼可以觀察到綠光，從而實現精準的套刻對準。

應用場景：

多層光刻： 在需要進行多層圖案疊加的光刻工藝中，精準套刻功能確保每一層圖案都能精確對準，避免層間偏差。

高精度器件制造： 對于制造精度要求高的微納器件，如集成電路、光波導等，精準套刻是保證器件性能的關鍵。

優勢：

提高了套刻精度，保證了多層結構的精確對準。

減少了因對準誤差導致的廢品率，提高了生產良率。

技術支持： 需要高精度的機械運動平臺和光學對準系統，以及相應的軟件算法進行圖像識別和位置校正。

陣列光刻：陣列光刻為您提供快速確認工藝參數的手段，以此來幫您節約時間

功能描述： 陣列光刻功能允許用戶在單個光刻步驟中，在樣品上同時制作多個相同或相似的圖案陣列。這為用戶提供了快速確認工藝參數的手段，可以一次性進行多個條件的對比實驗。

應用場景：

工藝參數優化： 在進行光刻工藝開發時，可以通過陣列光刻快速測試不同的曝光劑量、顯影時間等參數，找到合適的工藝條件。

劑量測試： 可以在同一基底的不同區域進行不同劑量的曝光，快速評估光刻膠的敏感度。

批量生產： 對于需要大量相同圖案的樣品，陣列光刻可以提高生產效率。

優勢：

節省了時間和材料成本，提高了實驗效率。

便于進行多組實驗對比，快速優化工藝參數。

技術支持： 需要軟件支持陣列圖案的生成和排版，以及精確的樣品臺移動控制。

主動對焦：主動對焦為您提供光刻前的實時對準，以此來確保每次光刻聚焦清晰

功能描述： 主動對焦功能在光刻前提供實時的自動對焦功能，確保每次光刻時樣品表面都處合適的聚焦狀態。這通常通過傳感器檢測樣品表面與曝光光源之間的距離，并自動調整樣品臺或曝光系統的位置來實現。

應用場景：

不同厚度樣品： 對于不同厚度或表面形貌的樣品，主動對焦可以確保每次光刻都能獲得清晰的圖案。

長時間光刻： 在長時間的光刻過程中，由于環境因素或機械振動，樣品和曝光系統的相對位置可能會發生變化，主動對焦可以實時校正，保證圖案質量。

高精度光刻： 對于特征尺寸極小的光刻圖案，主動對焦是保證圖案清晰度的關鍵。

優勢：

提高了光刻圖案的清晰度和一致性。

減少了因對焦不準導致的廢品率。

技術支持： 需要高精度的傳感器和快速響應的自動控制系統。

這四個特色功能：直接繪圖、精準套刻、陣列光刻和主動對焦，分別從設計靈活性、對準精度、實驗效率和圖案清晰度四個方面提升了光刻設備的性能。它們相輔相成，使得光刻設備能夠更好地滿足用戶在微納加工領域的各種需求，特別是在科研、新材料開發和制造等領域具有廣泛的應用前景。這些功能的實現需要軟硬件的協同配合，體現了光刻設備制造商的技術實力。