名稱（Name）

真空式等離子處理系統

型號（Model）

CRF-VPO-12L-S

控制系統（Control system）

PLC+觸摸屏

電源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz, 7kw

中頻電源功率（RF Power）

1000W/40KHz/13.56MHz

容量（Volume ）

180L(Option)

層數（Electrode of plies ）

14(Option)

有效處理面積（Area）

490(L)*356(W)

氣體通道（Gas）

兩路工作氣體可選：Ar、N2、CF4、O2

外形（Appearance ）

鈑金結構

產品特點
超大處理空間，提升處理產能，采用PLC+觸摸屏控制系統，精準的控制設備運行；
可按照客戶要求定制設備腔體容量和層數，滿足客戶的需求；保養維修成本低，便于客戶成本控制；
高精度，快響應，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業的技術支持。
 
應用范圍
真空等離子清洗機適用于印制線路板行業，半導體IC領域、等離子硅膠處理、塑膠處理、聚合體領域，汽車電子行業，航空工業等。印制線路板行業：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污、軟板、軟硬結合板表面清潔、去鉆污，軟板補強前活化。半導體IC領域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領域：硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、等離子刻蝕、活化。

等離子體清洗機也有做不到的事情你了解嗎

等離子體清洗機在應用中也有一定的制約因素存在，主要表現為以下幾點：
1.不能用這種方法除去物體表面的切削粉末，這點在清洗金屬表面油垢時表現尤為明(顯)。
2.實踐證明不能用它清楚很厚的油污，雖然用等離子體清洗少量附著在物體表面的油垢有很好的效(果)，但是對厚油垢的清(除)效(果)往往不好，一方面用它清(除)油膜，必須延長處理時間，使清洗的成本大大提高，另一方面有可能是它在與厚油垢相互接觸的過程中，引發油垢分子結構中的不飽和鍵發生了聚合，偶聯等復雜反應而形成較堅硬的樹脂化立體網狀結構有關。一旦形成這類樹脂膜他將很難被清(除)。因此通常只用等離子體清洗厚度在幾個微米以下的油污。
3.在應用過程中還發現不能用等離子體清洗很好除去表面粘附的指紋，而指紋是玻璃光學元件上常出現的一種污染物。等離子體清洗也不完(全)不能用于出去指紋，但這需要延長處理時間，這時又不得不考慮到這是他會對基材的性能造成不良的影響。所以還需要采用其他清洗措施進行預處理相配合。結果使清洗工藝過程復雜化。
4.由于等離子體清洗過程需要進行真空處理，而且一般為在線或批量生產，因此在把等離子體清洗裝置引進生產線時，必須考慮到被清洗工件的貯存和移送的問題，特別是當被處理工件體積較大，數量較多更應考慮到這個問題。
綜上所訴可知：等離子體清洗技術適用于對物體表面的油，水及微粒等輕度油污進行清洗，而且利于“速戰速決”的在線或批量清洗。
等離子清洗機在運行時應該要注意哪些事項：
1、正確設置等離子設備的運行參數,按時設備使用說明書來執行;
2、保護好等離子體的點火裝置,以確保等離子清洗機可以正常的啟動;
3、等離子設備在啟動前的準備工作,要對相關的人員進行培訓,同時確保操作等離子清洗機的人員可以按照要求嚴格執行各項操作;
4、在一次風管沒有通風的時候,等離子體的發生器運行時間不能超過設備說明書上面要求的時間,防止燒壞燃燒器,造成不必要的損失;
5、如果需要對等離子設備進行維護時請將等離子發生器進行斷電后再進行相應的操作。
等離子處理設備廣泛應用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理,能夠改善材料表面的潤濕能力,使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作,增強粘合力、鍵合力,同時去除有(機)污染物、油污或油脂。