實驗室無掩膜曝光機產品特點：
數字光刻系統
微納器件無掩模版直寫光刻
光掩模版制作
3D結構曝光功能
自動對準功能
用戶自定義標記對準功能
可視化定點曝光功能
自動聚焦功能
不規則樣片曝光
快速、精細兩種曝光模式
支持多種數據格式（GDSⅡ/ Gerber/ O DB++）
背部對準功能（選配）
405nm LD光源（375nm可選）
實驗室無掩膜曝光機參數：
| 型號 | MLC Lite | ||
| ModeⅠ | Mode Ⅱ | Mode Ⅲ | |
| 最小特征尺寸 | 0.5μm | 1μm | 2μm |
| 最小線寬線距 | 0.8μm | 1.2μm | 2.5μm |
| CD均勻性 | 10% | 10% | 10% |
| 兩層對位精度 5x5m㎡ | 500nm | 800nm | 1000nm |
| 兩層對位精度 50x50m㎡ | 800nm | 1000nm | 1500nm |
| 產能 | 50mm²/min | 100mm²/min | 300mm²/min |
| 最小基板尺寸 | 5mm x 5mm | ||
| 基板厚度 | 0.1 - 12mm(可選) | ||
| 曝光面積 | 150mm x 150mm | ||
| 灰度曝光 | 可選128階 | ||
| 曝光光源 | Laser, 405nm or 375nm | ||
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