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脈沖激光沉積樣品臺 參考價：面議
脈沖激光沉積樣品臺是一種物理氣相沉積技術，用于在襯底上生長高質量的薄膜。脈沖激光沉積系統中的樣品臺是一個關鍵組件，用于支撐和加熱待沉積的樣品。
脈沖激光沉積靶臺 參考價：面議
脈沖激光沉積靶臺的設計和應用對于脈沖激光沉積系統的性能和實驗結果具有重要影響。通過綜合考慮穩定性、熱隔離、靈活性、靶材均勻性、冷卻機制以及靶材旋轉等因素，可以設...
脈沖激光沉積系統激光光路 參考價：面議
脈沖激光沉積系統激光光路是一個高度復雜和精密的系統，需要各個部分的緊密配合和精確控制，才能制備出高質量的薄膜。同時，隨著科技的發展，脈沖激光沉積技術也在不斷地進...
單腔體脈沖激光沉積系統 參考價：面議
單腔體脈沖激光沉積系統是一種先進的材料制備技術，它利用脈沖激光的高能量密度來蒸發和電離靶材上的物質，并在基底上沉積形成各種物質薄膜。這種系統通常包括一個沉積室，...
雙腔體脈沖激光沉積系統 參考價：面議
雙腔體脈沖激光沉積系統（Dual Chamber Pulsed Laser Deposition System）是一種先進的薄膜制備技術，它結合了脈沖激光沉積（...
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