有機-金屬真空熱蒸鍍儀 參考價：面議
1.EC400是一臺高真空蒸發鍍膜設備。2.設備主要由真空室、蒸發源、膜厚監測儀、樣品臺、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成...
加熱型基本提拉鍍膜機 參考價：面議
DP100-BE-H型提拉鍍膜機是一款適用于液相鍍膜制 備而設計的精密儀器，可實現智能化編程控制。 DP100-BE-H提拉鍍膜機是一款加熱基本型提拉鍍膜機， ...
實驗室鍍膜機 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
真空鍍膜設備 參考價：面議
鍍膜設備主要功能能夠在微顆粒表面沉積各種金屬薄膜(包括磁性金屬膜)、金屬氧化物薄膜、金屬氮化物薄膜及合金薄膜，且所鍍薄膜致密、均勻、純度高、附著力強等。
臺式光刻機 參考價：面議
臺式光刻機參數：1.最大曝光面積:160mm*160mm。⒉.曝光分辨率:1um(膠厚≤0.5um的正膠)。3.對準精度:±1um(標準晶圓拋光片)。...
程控伺服勻膠機 參考價：面議
AC200-S-PP勻膠機是一款高性能精密勻膠機，采用了*進的設計理念，配合精密的運動控制系統，可以實現高精度、高均勻度的勻膠操作。可以存貯100組程序，每組程...
狹縫涂布設備 參考價：面議
狹縫涂布設備的特點可調節風刀，自由調整，進口刀頭，出液均勻可靠，激光自動對刀，高效可靠，高精度大理石平臺，高平整度
臺式熱封儀 參考價：面議
臺式熱封儀是針對包裝熱封強度檢測而研究生產的儀器，熱封儀主要應用于制作塑料薄膜基材、軟包裝復合膜、涂布紙及其它熱封復合膜。主要有熱封溫度、熱封時間、熱封壓力等參...
勻膠機旋涂儀 參考價：面議
勻膠機旋涂儀是一款桌上型實驗室勻膠機，采用了設計理念，配合精密的運動控制系統，可以實現高精度、高均勻度的勻膠操作。產品設計小巧，適合安裝在手套箱，通風櫥等特定環...
自動勻膠顯影機 參考價：面議
自動勻膠顯影機可實現不同功能模塊的自由組合定制；配載精密的運動控制系統，提高實驗精度及重復性。
紫外清洗機 參考價：面議
紫外清洗機是市場上使用集成控制系統的桌面型紫外光清洗機，控制系統帶有LCD點陣液晶顯示屏，數字化的界面讓用戶使用更加簡單，操作按鈕和顯示屏均在產品上部提供友好的...
加熱紫外清洗機 參考價：面議
加熱紫外清洗機擁有獨立的控制系統，使用時符合人體工程學。 UC200-SE高溫型紫外臭氧清洗機是市場上使用集成控制系統的桌面型紫外光清洗機 ，控制系統帶有LCD...
實驗室等離子清洗機 參考價：面議
實驗室等離子清洗機設備小巧，一鍵式操控，適用于科研院所等各種實驗室環境。無環境污染、無化學品消耗、機臺本身不產生污染物。
伺服勻膠機 參考價：面議
伺服勻膠機是一款高性能精密勻膠機，采用了*進的設計理念，配合 精密的運動控制系統，可以實現高精度、高均勻度的勻膠操作。可以存貯 100 組程序，每組程序可達 1...
電解雙噴減薄儀 參考價：面議
電解雙噴減薄儀加液氮制冷方式，控制盒與電解槽分開控制、拋光、破孔自動報警并停機；拋光電壓、電流值液晶數顯，拋光電壓、感光值及流速旋鈕可調；
控溫電解雙噴儀 參考價：面議
控溫電解雙噴儀七寸全彩觸摸屏操作，電解液溫度和電流變化曲線實時顯示；采用外置冷卻機進行恒定溫度控制，提高了制樣重復性(TJ100-SE-TMS)；
電解雙噴儀 參考價：面議
電解雙噴儀加液氮制冷方式，控制盒與電解槽分開控制、拋光、破孔自動報警并停機；拋光電壓、電流值液晶數顯，拋光電壓、感光值及流速旋鈕可調；
等離子清洗機 參考價：面議
PT40K-BE等離子清洗機滿足8寸以下基片使用滿足8寸以下基片使用，適用性廣。它可以高效清洗，快速達成需要的表面親水性。在實驗過程中無環境污染、無化學品消耗、...
UM10-PE超薄切片機 參考價：面議
10寸全彩觸屏操作，定制單片機控制；高精度機械式推進結構，切片效果平穩連續；刀臺XYR三軸可調，電動精準控制刀臺位移；三目體視顯微鏡可直接觀察，外界4K顯示器；...
蒸發鍍膜設備 參考價：面議
1.EC400是一臺高真空蒸發鍍膜設備。2.設備主要由真空室、蒸發源、膜厚監測儀、樣品臺、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成...
蒸發鍍膜機 參考價：面議
1.EC400是一臺高真空蒸發鍍膜設備。2.設備主要由真空室、蒸發源、膜厚監測儀、樣品臺、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成...
磁控濺射鍍膜設備 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
多功能鍍膜設備 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
科研鍍膜機 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
5