高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PVD500

真空室結(jié)構(gòu):方形前開(kāi)門

真空室尺寸:p500x500x500mm

極限真空度:≤3.0E-5Pa

沉積源:永磁靶4套，2英寸

樣品尺寸，溫度:p4英寸，1片，最高800°C

占地面積(長(zhǎng)x寬x高):約2米x1.7米x2米

電控描述:全自動(dòng)

工藝:片內(nèi)膜厚均勻性:≤3%

特色參數(shù):

產(chǎn)品概述：
本沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。 

設(shè)備特點(diǎn)：

本設(shè)備是一個(gè)鍍膜平臺(tái)，可把磁控靶拆下?lián)Q電子槍成為電子束鍍膜系統(tǒng)、或換蒸發(fā)源作為熱蒸發(fā)系統(tǒng)、或換上離子槍作為離子束鍍膜系統(tǒng)等。
設(shè)備用途：
用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項(xiàng)目