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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱(chēng) | |||
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MPEM-1600掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*荷蘭光刻機(jī)（掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner ），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。 產(chǎn)品型號(hào)：MPEM-1600 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
參考價(jià):面議 詢(xún)價(jià)留言 | ||
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MEMA-800光刻機(jī)Mask Aligner 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*荷蘭光刻機(jī)（光刻機(jī)Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。 產(chǎn)品型號(hào)：MEMA-800 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
參考價(jià):面議 詢(xún)價(jià)留言 | ||
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MMA16光刻機(jī)Aligner MMA 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*荷蘭（光刻機(jī)Aligner MMA16），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。客戶(hù)如美國(guó)航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦 產(chǎn)品型號(hào)：MMA16 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
參考價(jià):面議 詢(xún)價(jià)留言 | ||
