 |
邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
12
聯系電話
|
邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
聯系電話
| 產品圖片 | 產品名稱 | |||
|---|---|---|---|---|
|
L2006ossila浸涂機Dip Coating 簡單介紹：ossila浸涂機Dip Coating是一款專為研究人員設計的高性能薄膜涂覆設備，具有高精度電機、平穩運動及廣泛的基材兼容性等優點。其速度范圍廣，從0.01mm/s到50mm/s，確保了不同厚度的涂層需求。 產品型號：L2006 所在地：武漢市 更新時間：2025-05-15 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
|
L2006Aossila浸涂機Dip Coater 簡單介紹：ossila浸涂機Dip Coater通過0.01-50mm/s精密調速（速率重復性±0.01%@1mm/s）結合嵌入式控制軟件（10組×20程序），實現100mm行程內±0.3%運動精度，緊湊結構（200×300×350mm）集成碰撞防護與99小時59分連續運行能力，適配多元基材涂覆需求。 產品型號：L2006A 所在地：武漢市 更新時間：2025-05-15 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
|
L2006A1ossila浸涂機 簡單介紹：ossila浸涂機通過控制基材從溶液中抽出的速度， 您可以改變沉積膜的厚度。高精度電機意味著可以高精確度和可再現性控制退紙速度，從而控制薄膜厚度。 產品型號：L2006A1 所在地：武漢市 更新時間：2025-05-15 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
|
L2002ossila紫外臭氧清洗機UV Ozone Cleaner 簡單介紹：ossila紫外臭氧清洗機UV Ozone Cleaner搭載4支150mm合成石英燈管（185nm/254nm雙波段輸出），通過紫外光解氧分子生成臭氧，實現有機污染物的非接觸式氧化分解。系統配備153mm直徑可溫控樣品臺，支持12mm厚度內各類基材處理。 產品型號：L2002 所在地：武漢市 更新時間：2025-05-15 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
|
L2002Aossila紫外臭氧清洗機UVO 簡單介紹：ossila紫外臭氧清洗機UVO作為精密表面處理設備，通過高強度雙波段紫外光源（185nm/254nm）激發臭氧氧化反應，實現有機污染物的無損傷分解與揮發，可在多元基材（石英/硅/金屬/玻璃等）表面獲得原子級潔凈度。系統配置153mm直徑溫控樣品臺，集成LCD雙模計時顯示（剩余/已用時間），內置機械聯鎖與過熱保護機制，適用于表面能改性（親水化處理）、薄膜沉積預處理、精密器件清洗等關鍵工藝。 產品型號：L2002A 所在地：武漢市 更新時間：2025-05-15 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
|
L2001AOssila勻膠機Spin Coater 簡單介紹：Ossila勻膠機Spin Coater 采用創新機械設計，專為實驗室環境研發，具備精準薄膜沉積能力。系統通過智能程序化控制實現120-6000 RPM無極調速，適配從結晶材料到超薄膜制備的多樣化實驗需求。設備內置水平校準系統與免真空托盤，確保基材平整度與涂覆均勻性。 產品型號：L2001A 所在地：武漢市 更新時間：2025-05-15 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
|
L2002A3ossila紫外臭氧清洗機 簡單介紹：我們所提供的ossila紫外臭氧清洗機是一種簡單，經濟，高效的材料表面清洗設備。只需把樣品放置到托盤上，關上艙門，設置時間，按下運行按鈕，就可以在幾分鐘內，快速去除大多數無機基材上的有機污染物，為您提供超潔凈的表面。通過使用高功率紫外線光源產生臭氧，將污染物分解成揮發性化合物。這些揮發性化合物從表面蒸發而*跡。這種方法可產生接近原子級的清潔表面并且不會損壞樣品。 產品型號：L2002A3 所在地：武漢市 更新時間：2025-05-15 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
|
L2001Ossila勻膠機旋涂儀 簡單介紹：Ossila勻膠機旋涂儀以經濟型設計融合實驗室操作需求，采用免真空技術替代傳統真空泵/氮氣依賴，通過特制凹槽托盤實現基片穩定固定。設備集成10組可編程參數模塊，支持120-6000 RPM寬域調速及多工序流程設定，配備不銹鋼防腐蝕外殼與24V直流安全供電系統，適配多種規格基片處理，在簡化操作流程的同時降低維護成本，滿足實驗室精準涂覆與耐用性需求。 產品型號：L2001 所在地：武漢市 更新時間：2025-05-15 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
|
L2001A3Ossila勻膠機 簡單介紹：Ossila勻膠機，英文名：Spin Coaterr & Spin Processor）適合半導體硅片的勻膠鍍膜 行業俗稱：勻膠臺、勻膠機、旋涂儀、涂膠機、鍍膜機、甩膠機、旋轉涂布機，旋轉涂敷儀，涂膜機，涂布機 產品型號：L2001A3 所在地：武漢市 更新時間：2025-05-15 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
|
L2009A1ossila多功能自動涂膜機 簡單介紹：在現代科研與工業生產領域，薄膜涂布技術廣泛應用于材料科學、電子、光學等眾多行業。為滿足精準、高效的薄膜涂布需求，我們特別推出這款功能優秀的ossila多功能自動涂膜機。它憑借優良的設計和優秀的性能，成為實驗室及生產線上薄膜涂布工作的得力助手。 產品型號：L2009A1 所在地：武漢市 更新時間：2025-03-07 |
參考價:¥21000 詢價留言 | ||
|
L2003S2ossila注射泵 簡單介紹：ossila注射泵，高精度、可連續傳輸液體，可控制緩慢長達數小時的溶液分配，得出重復、可靠的結果 產品型號：L2003S2 所在地：武漢市 更新時間：2025-02-13 |
參考價:¥13000 詢價留言 | ||
|
T2005E3LED測量系統 簡單介紹：Ossila LED測量系統為執行 LED 的電流-電壓-亮度（IVL 或 JVL）表征提供了完整的解決方案。設備支架具有內置的光傳感器，可進行照度、亮度和白計數測量。為了簡化設備測試，該軟件還將計算LED的電流和功率效率。同時，壽命模式測量LED在恒定電壓下長時間的性能。 產品型號：T2005E3 所在地：武漢市 更新時間：2025-02-13 |
參考價:¥23800 詢價留言 | ||
|
G2001A1ossila光譜儀 簡單介紹：ossila光譜儀是一款快速、可靠、緊湊的 USB 光譜儀，可為世界各地的研究科學家帶來的紫外-可見-近紅外（320 nm 至 1050 nm）光譜。 產品型號：G2001A1 所在地：武漢市 更新時間：2025-02-13 |
參考價:¥13500 詢價留言 | ||
|
T2003E3Ossila太陽能電池I-V測試系統 簡單介紹：英國進口，Ossila太陽能電池I-V測試系統，可靠、準確地表征光伏器件，控制您的太陽能電池測量 - 無需編程知識。 產品型號：T2003E3 所在地：武漢市 更新時間：2025-02-13 |
參考價:¥21500 詢價留言 | ||
|
G2009B1Ossila太陽光模擬器 簡單介紹：Ossila太陽光模擬器結構緊湊，是表征小面積太陽能電池的理想選擇。它在直徑為 15 mm 的圓形上具有出色的 AAA 分類，在直徑為 25 mm 的區域上具有出色的 ABA 分類（IEC 60904-9：2020 國際標準），并提供穩定、可靠的輸出，無需維護。 產品型號：G2009B1 所在地：武漢市 更新時間：2025-02-13 |
參考價:¥21500 詢價留言 | ||
|
T2001A4ossila四點探針臺 簡單介紹：ossila四點探針臺是一款易于使用的工具，用于快速測量材料的薄層電阻，電阻率和電導率。 通過使用我們自己的源測量單元，我們能夠創建一個低成本的系統，使測量范圍更廣泛。 探頭采用彈簧加載接觸，而不是尖銳的針頭，防止損壞精密樣品，如厚度在納米左右的聚合物薄膜。 產品型號：T2001A4 所在地：武漢市 更新時間：2025-02-12 |
參考價:¥18500 詢價留言 | ||
|
L2005A2ossila狹縫涂布機 簡單介紹：與卷對卷和片對片沉積工藝相兼容，ossila狹縫涂布機是用于可擴展沉積薄膜的技術之一。其廣泛的加工窗口確保穩定、無缺陷的沉積，適用于各種粘度的溶液。薄 膜均勻度高，準確且可重復，厚度可通過改變流速和基材速度來控制。 產品型號：L2005A2 所在地：武漢市 更新時間：2025-02-11 |
參考價:¥72500 詢價留言 | ||
|
P2005A2Ossila源測量單元 簡單介紹：Ossila源測量單元：源電壓、測量電流、獲取數據，簡化和加速數據收集。 源測量單元包含兩個用于測量電流的電壓源表和兩個用于測量電壓的電壓表。有了它，您可以測量各種研究設備，包括光伏、LED 和 OLED、晶體管等。 產品型號：P2005A2 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
|
Ossila 恒電位儀T2006A1Ossila恒電位儀 簡單介紹：Ossila恒電位儀是一種功能強大的電化學測量設備，用于執行線性掃描伏安法、循環伏安法、開路電位和受控電位電解。 產品型號：Ossila 恒電位儀T2006A1 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
|
I201鈣鈦礦前體油墨（用于氮氣處理） 簡單介紹：在DMF溶劑中以1：1：4（PbCl 2：PbI 2：MAI）的摩爾比配制methylammounium iodide（MAI），PbCl 2和PbI 2的制劑。在加工過程中，該油墨可用于形成CH 3 NH 3 PbI 3-x Cl x鈣鈦礦膜。該油墨的工藝配方針對氮氣環境下的手套箱加工進行了優化。 產品型號：I201 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
