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邁可諾技術有限公司

主營產品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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共計 593 條產品信息

產品圖片 產品名稱
L2006ossila浸涂機Dip Coating
L2006ossila浸涂機Dip Coating
簡單介紹:ossila浸涂機Dip Coating是一款專為研究人員設計的高性能薄膜涂覆設備,具有高精度電機、平穩運動及廣泛的基材兼容性等優點。其速度范圍廣,從0.01mm/s到50mm/s,確保了不同厚度的涂層需求。
產品型號:L2006   所在地:武漢市   更新時間:2025-05-15
參考價:面議 詢價留言
L2006Aossila浸涂機Dip Coater
L2006Aossila浸涂機Dip Coater
簡單介紹:ossila浸涂機Dip Coater通過0.01-50mm/s精密調速(速率重復性±0.01%@1mm/s)結合嵌入式控制軟件(10組×20程序),實現100mm行程內±0.3%運動精度,緊湊結構(200×300×350mm)集成碰撞防護與99小時59分連續運行能力,適配多元基材涂覆需求。
產品型號:L2006A   所在地:武漢市   更新時間:2025-05-15
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L2006A1ossila浸涂機
L2006A1ossila浸涂機
簡單介紹:ossila浸涂機通過控制基材從溶液中抽出的速度, 您可以改變沉積膜的厚度。高精度電機意味著可以高精確度和可再現性控制退紙速度,從而控制薄膜厚度。
產品型號:L2006A1   所在地:武漢市   更新時間:2025-05-15
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L2002ossila紫外臭氧清洗機UV Ozone Cleaner
L2002ossila紫外臭氧清洗機UV Ozone Cleaner
簡單介紹:ossila紫外臭氧清洗機UV Ozone Cleaner搭載4支150mm合成石英燈管(185nm/254nm雙波段輸出),通過紫外光解氧分子生成臭氧,實現有機污染物的非接觸式氧化分解。系統配備153mm直徑可溫控樣品臺,支持12mm厚度內各類基材處理。
產品型號:L2002   所在地:武漢市   更新時間:2025-05-15
參考價:面議 詢價留言
L2002Aossila紫外臭氧清洗機UVO
L2002Aossila紫外臭氧清洗機UVO
簡單介紹:ossila紫外臭氧清洗機UVO作為精密表面處理設備,通過高強度雙波段紫外光源(185nm/254nm)激發臭氧氧化反應,實現有機污染物的無損傷分解與揮發,可在多元基材(石英/硅/金屬/玻璃等)表面獲得原子級潔凈度。系統配置153mm直徑溫控樣品臺,集成LCD雙模計時顯示(剩余/已用時間),內置機械聯鎖與過熱保護機制,適用于表面能改性(親水化處理)、薄膜沉積預處理、精密器件清洗等關鍵工藝。
產品型號:L2002A   所在地:武漢市   更新時間:2025-05-15
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L2001AOssila勻膠機Spin Coater
L2001AOssila勻膠機Spin Coater
簡單介紹:Ossila勻膠機Spin Coater 采用創新機械設計,專為實驗室環境研發,具備精準薄膜沉積能力。系統通過智能程序化控制實現120-6000 RPM無極調速,適配從結晶材料到超薄膜制備的多樣化實驗需求。設備內置水平校準系統與免真空托盤,確?;钠秸扰c涂覆均勻性。
產品型號:L2001A   所在地:武漢市   更新時間:2025-05-15
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L2002A3ossila紫外臭氧清洗機
L2002A3ossila紫外臭氧清洗機
簡單介紹:我們所提供的ossila紫外臭氧清洗機是一種簡單,經濟,高效的材料表面清洗設備。只需把樣品放置到托盤上,關上艙門,設置時間,按下運行按鈕,就可以在幾分鐘內,快速去除大多數無機基材上的有機污染物,為您提供超潔凈的表面。通過使用高功率紫外線光源產生臭氧,將污染物分解成揮發性化合物。這些揮發性化合物從表面蒸發而*跡。這種方法可產生接近原子級的清潔表面并且不會損壞樣品。
產品型號:L2002A3   所在地:武漢市   更新時間:2025-05-15
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L2001Ossila勻膠機旋涂儀
L2001Ossila勻膠機旋涂儀
簡單介紹:Ossila勻膠機旋涂儀以經濟型設計融合實驗室操作需求,采用免真空技術替代傳統真空泵/氮氣依賴,通過特制凹槽托盤實現基片穩定固定。設備集成10組可編程參數模塊,支持120-6000 RPM寬域調速及多工序流程設定,配備不銹鋼防腐蝕外殼與24V直流安全供電系統,適配多種規格基片處理,在簡化操作流程的同時降低維護成本,滿足實驗室精準涂覆與耐用性需求。
產品型號:L2001   所在地:武漢市   更新時間:2025-05-15
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L2001A3Ossila勻膠機
L2001A3Ossila勻膠機
簡單介紹:Ossila勻膠機,英文名:Spin Coaterr & Spin Processor)適合半導體硅片的勻膠鍍膜
行業俗稱:勻膠臺、勻膠機、旋涂儀、涂膠機、鍍膜機、甩膠機、旋轉涂布機,旋轉涂敷儀,涂膜機,涂布機
產品型號:L2001A3   所在地:武漢市   更新時間:2025-05-15
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RSS-210-S德國Unitemp進口真空回流焊爐
RSS-210-S德國Unitemp進口真空回流焊爐
簡單介紹:德國Unitemp進口真空回流焊爐RSS-210-S微型真空回流焊系統專為無焊劑焊接設計,結構緊湊,適合實驗室和潔凈室使用。具備真空密封腔室和觀察窗,可選配USB攝像頭,標配氮氣質量流量控制器并支持多種氣體氛圍。加熱板采用鋁制方形設計,尺寸210x210mm,溫控精確,升溫最快達180K/min,降溫最快達120K/min。
產品型號:RSS-210-S   所在地:武漢市   更新時間:2025-05-06
參考價:面議 詢價留言
RSS-160-S德國Unitemp真空回流焊爐
RSS-160-S德國Unitemp真空回流焊爐
簡單介紹:德國Unitemp真空回流焊爐RSS-160-S微型真空回流焊系統專為無焊劑焊接設計,結構緊湊,適合實驗室和潔凈室使用。具備真空密封腔室和觀察窗,可選配USB攝像頭,標配氮氣質量流量控制器并支持多種氣體氛圍。加熱板采用鋁制方形設計,尺寸160x160mm,溫控精確,升溫最快達180K/min,降溫最快達120K/min。
產品型號:RSS-160-S   所在地:武漢市   更新時間:2025-05-06
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RSS-110-S德國進口Unitemp真空回流焊爐
RSS-110-S德國進口Unitemp真空回流焊爐
簡單介紹:德國進口Unitemp真空回流焊爐RSS-110-S微型真空回流焊系統專為無焊劑焊接設計,結構緊湊,適合實驗室和潔凈室使用。具備真空密封腔室和觀察窗,可選配USB攝像頭,標配氮氣質量流量控制器并支持多種氣體氛圍。加熱板采用鋁制方形設計,尺寸110x110mm,溫控精確,升溫最快達180K/min,降溫最快達120K/min,真空度可達10?³ hPa。
產品型號:RSS-110-S   所在地:武漢市   更新時間:2025-05-06
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Cat#16482通用光學顯微鏡用A型浸油
Cat#16482通用光學顯微鏡用A型浸油
簡單介紹:顯微鏡浸油選擇指南
用于普通光學顯微鏡:A型和B幾乎可以互換,彼此互溶的中級粘度。與其他類型相比,生產數量較多,并且A型和B是比較經濟的。在他們之間做出選擇的決定因素是您的特定應用的最佳粘度。
低粘度,用于普通光學顯微鏡,包裝規格有7.4cc、30cc、120cc、480cc、1gal
產品型號:Cat#16482   所在地:武漢市   更新時間:2025-04-30
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HF型低熒光顯微鏡用浸油
HF型低熒光顯微鏡用浸油
簡單介紹:顯微鏡浸油HF型:低熒光性,用于熒光顯微鏡。HF型的熒光性比LDF型略多,但不含鹵素。 LDF,HF和FF型浸油的粘滯度分別為500 cSt, 700 cSt和170 cSt。
產品型號:HF型   所在地:武漢市   更新時間:2025-04-30
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Table Top加拿大進口Plasmionique離子濺射鍍膜儀
Table Top加拿大進口Plasmionique離子濺射鍍膜儀
簡單介紹:加拿大進口Plasmionique離子濺射鍍膜儀,多功能薄膜沉積系統,搭載Plasmionique公司研發的濺射陰極技術,專為實現高靶材利用率而設計,支持平衡與非平衡磁控配置,并提供圓形或矩形靶材適配方案。
產品型號:Table Top   所在地:武漢市   更新時間:2025-04-30
參考價:面議 詢價留言
Table Top 4Plasmionique微波等離子MWPlasma MWPECVD
Table Top 4Plasmionique微波等離子MWPlasma MWPECVD
簡單介紹:Plasmionique微波等離子MWPlasma MWPECVD,加拿大進口桌面式設備,可支持MWPlasma微波等離子體和MWPECVD微波等離子體增強化學氣相沉積。
產品型號:Table Top 4   所在地:武漢市   更新時間:2025-04-30
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Table Top 2Plasmionique 支持電子束蒸發和熱蒸發 鍍膜
Table Top 2Plasmionique 支持電子束蒸發和熱蒸發 鍍膜
簡單介紹:Plasmionique 支持電子束蒸發和熱蒸發 鍍膜 ,加拿大進口桌面式設備,可支持EBeam電子束蒸發和Thermal Evaporation熱蒸發
產品型號:Table Top 2   所在地:武漢市   更新時間:2025-04-30
參考價:面議 詢價留言
Table Top 3Plasmionique支持 CVD / ALD / PECVD / RIE
Table Top 3Plasmionique支持 CVD / ALD / PECVD / RIE
簡單介紹:Plasmionique支持 CVD / ALD / PECVD / RIE ,加拿大進口桌面式設備,模塊化設計,可支持ALD原子層沉積,CVD化學氣相沉積,PECVD??等離子體增強化學氣相沉積和RIE??反應離子刻蝕。
產品型號:Table Top 3   所在地:武漢市   更新時間:2025-04-30
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定制型Cargille標準浸入液(桶裝)
定制型Cargille標準浸入液(桶裝)
簡單介紹:美國Cargille浸入液配方是類似于標準的折射率匹配液,但通常更便宜。他們是定制混合在5893 埃米和25°C,精度可達到±0.0005范圍內的nD 1.293 - 1.570。偏離標準規格可供改變波長、溫度、和準確性,但需提供額外的費用。
產品型號:定制型   所在地:武漢市   更新時間:2025-04-25
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定制型Cargille特色浸入液(桶裝)
定制型Cargille特色浸入液(桶裝)
簡單介紹:由標準的浸入液而言,特色浸入液具有不同的公式,并具有特殊的光學和物理特性,這使得它們更適合某些應用程序。他們是定制混合在5893埃米和25°C, 其精度±0.0005范圍內的nD 1.4520 - 1.656。自定義的變化可以以相同的方式作為常規浸入液體。
產品型號:定制型   所在地:武漢市   更新時間:2025-04-25
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