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邁可諾技術有限公司

主營產品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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[供應]CNI v2.1-CNI v2.1 -桌面納米壓印工具
CNI v2.1-CNI v2.1 -桌面納米壓印工具
貨物所在地:
北京北京市
更新時間:
2024-12-17 09:03:26
有效期:
2024年12月17日--2025年6月19日
已獲點擊:
143
【簡單介紹】CNI v2.1是一種非常靈活的納米壓印工具。它可提供熱納米壓印、UV納米壓印以及真空納米壓印。模塊化系統可根據特定需求輕松配置。體積小,容易存放。大可處理Ø100毫米(4英寸)所有形狀和格式的印章和基板。該系統是手動裝卸印章和基板,但所有處理器都是全自動的,專用軟件用戶可以*控制壓印過程。
【詳細說明】

特色:

•    體積小巧,容易存放,桌面型

•    輕微復制微米和納米級結構

•    熱壓印溫度高達200°C

•    可選的高溫模塊,適用于240°C

•    UV 納米壓印,365nm曝光

•    真空納米壓?。ㄇ皇铱沙檎婵罩?/span>0.1毫巴)

•    納米壓印壓力高達10

•    溫度分布均勻、讀數精準

•    筆記本電腦全自動控制,工藝配方編輯簡單,*靈活控制,自動記錄數據

•    直徑大100毫米(圓形)腔室

•    腔室高度為20毫米,可擴展至45毫米

•    即插即用

•    使用簡單直觀

•    專為研發而設計

•    提供安裝和操作教程視頻

 

應用:在過去五年中,石墨烯的氣體傳感器引起了極大的興趣,顯示出單分子檢測。

近的研究表明,與非圖案化層相比,石墨烯的圖案化強烈地增加了靈敏度。

通過標準程序生長CVD石墨烯,然后轉移到Si / SiO 2基板上進行進一步處理。 如(Mackenzie2D Materials)中所述,使用物理陰影掩模和激光燒蝕來定義接觸和器件區域。

使用軟壓印在CNI v2.0中進行熱納米壓印光刻。 mr-I7010E壓印抗蝕劑在130℃,6巴壓力下壓印10分鐘。 壓力在70℃下釋放。

通過反應離子蝕刻將邊緣到邊緣間隔為120-150nm的大面積圖案的孔轉移到石墨烯中,并且用丙酮除去殘留的抗蝕劑。

發現器件具有大約的載流子遷移率發現器件在加工前具有約2000cm2 / Vs的載流子遷移率,之后具有400cm2 / Vs的載流子遷移率處理,同時保持整體低摻雜水平。




 

 



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