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邁可諾技術有限公司

主營產品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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公司信息

人:
鄧經理
話:
4008800298
機:
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真:
址:
洪山區珞獅南路147號未來城A棟
編:
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www.mycro.net.cn
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[供應]MPEM-1600-掩膜曝光光刻機Mask Aligner MPEM-1600
MPEM-1600-掩膜曝光光刻機Mask Aligner MPEM-1600
貨物所在地:
北京北京市
更新時間:
2024-12-30 09:23:35
有效期:
2024年12月30日--2025年6月29日
已獲點擊:
162
【簡單介紹】MYCRO*荷蘭光刻機(Mask Aligner),是的光刻系統,為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統,廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。客戶如美國航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學、劍橋大學、斯坦福大學、倫敦大學等等。
【詳細說明】

一、產品簡介:

光刻機分為半自動和全自動兩大系列。MPEM系列是高精度的雙向掩模對準器,在晶片的頂側和底側包括對準光學系統,因此可以與頂側對準對頂側表面進行接觸,軟接觸和接近圖案化。晶片底面上的圖形。掩模和晶圓的精確對準可能是通過高分辨率光學系統實現的,該光學系統的頂部和底部均安裝了對稱排列的10X物鏡。由于可以調成對的物鏡之間的間隔,所以不規則形成的晶片也可以自由地對準。

 

MPEM-1600

MPEM-12M

MPEM-16M

光罩尺寸

多5英寸

多7英寸

多9英寸

晶圓尺寸

高達4英寸(無定形)

高達6英寸(無定形)

高達8英寸(無定形)

面罩架滑動

手動卡盤

面具運動

X =±3毫米,Y =±3毫米

接觸

方法

軟接觸/硬接觸/接近暴露

 

 

照明

250W超高壓蒸氣汞燈

500W超高壓蒸氣汞燈

照明不規則

±5%

有效接觸面積

直徑100毫米

直徑150毫米

直徑200毫米

解析度

3mµ L / S

對準

方法

目鏡觀察(精神領域系統)

9英寸視頻

監控系統

物鏡

10X兩對(上/下)

目鏡

NWF 10X(一對)

--

總放大倍率

100倍

200倍

物鏡分離

15?90毫米

80?140毫米

55?184毫米

聚焦單元

手冊

對準范圍

X,Y =±4mmθ
=±22.5°

X,Y =±4mmθ
=±5°

對齊間隙

09?99微米

對準精度

小于±5mm

實用工具

主機電源

100-220V AC,50 / 60Hz,15A(600W)

水銀燈電源

100-220V AC,50 / 60Hz,15A(550W)

100-220V,50 / 60Hz,15A(1,100W)

氮氣

0.4?0.5兆帕

100-220V AC,50 / 60Hz,15A(1,100W)

真空壓力

小于21.3kPa
(從大氣壓到-80kPa )

尺寸(主機)

750( 寬)x
820(深)x
1,700(高)mm

940( 寬)x
860(
深)x 1,670(高)mm

1,200( 寬)x
1,090(深)x
1,800(高)mm

凈重

大約 450公斤

大約 550公斤

大約 700公斤

選件

NWF 15X目鏡(一對)
9英寸電視監視器系統(黑白)

--
 

 

MPEM-1600

MPEM-12M

MPEM-16M

(適用
于直徑大為4英寸的晶片)

(適用
于直徑大為6英寸的晶片)

(適用
于直徑大為8英寸的晶片)

                        

*除上述以外,還提供電動MPEM-2000 / 4000型和全自動MPEM-8M / 12M型。



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