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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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聯(lián)系電話
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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光刻材料（如光刻膠和顯影液）的表面張力對光刻工藝本身具有重要影響。例如，旋涂均勻性、平面化和附著力直接取決于材料的表面張力。同樣，涂層的表面自由能（SFE）也與此密切相關(guān)。
通過接觸角測量，可以研究半導(dǎo)體技術(shù)中使用的基板和涂層的表面自由能（SFE）。測量接觸角能夠幫助您快速優(yōu)化新工藝步驟，并更好地標(biāo)準(zhǔn)化現(xiàn)有工藝。晶圓表面性質(zhì)的微小變化會表現(xiàn)為接觸角的顯著且易于檢測的改變。投入少量時間測量接觸角，可以通過避免后續(xù)生產(chǎn)問題獲得回報。為了降低缺陷密度并實(shí)現(xiàn)光刻膠結(jié)構(gòu)的微小特征尺寸（<1μm），良好的光刻膠附著力至關(guān)重要。借助接觸角測量，您可以輕松控制附著力。
德國進(jìn)口接觸角測量儀SURFTENS HL 200 的特點(diǎn)
接觸角測量系統(tǒng) SURFTENS HL 200 專為半導(dǎo)體行業(yè)和研究設(shè)計(jì)，尤其適用于硅晶圓表面處理的工藝控制。它是研究晶圓接觸角和潤濕性的理想工具。SURFTENS HL 200 能夠滿足對硅晶圓潤濕性快速、高精度且便捷的測量需求。
SURFTENS HL 200 的突出特性包括：
• 緊湊省空間、封閉式機(jī)械基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)
• 高質(zhì)量固定焦距測量物鏡
• USB攝像頭
• 所有組件集成于封閉外殼內(nèi)，防止錯位
• 可調(diào)均勻高亮LED照明
• 特氟龍涂層晶圓臺（直徑200mm）
• 晶圓臺手動x軸和φ軸定位
• 支持真空鑷子放置晶圓
• 晶圓臺行程：100mm
• 晶圓臺旋轉(zhuǎn)角度：360°
此結(jié)構(gòu)可測量晶圓表面任意點(diǎn)。晶圓臺的手動x軸和φ軸配備刻度，便于定位到指定位置。
滴液系統(tǒng)調(diào)節(jié)功能：
• 手動z軸調(diào)節(jié)針頭高度
• 手動y軸調(diào)節(jié)針頭居中
• 手動x軸調(diào)節(jié)針頭對焦
滴液系統(tǒng)配置選項(xiàng)：
• 1套手動直滴系統(tǒng)
• 2套手動直滴系統(tǒng)
• 1套軟件控制自動直滴系統(tǒng)
• 2套軟件控制自動直滴系統(tǒng)
• 1套手動+1套自動直滴系統(tǒng)組合
自動測量功能實(shí)現(xiàn)最高精度
通過手動或自動直滴系統(tǒng)生成測試液滴（通常為去離子水）。液滴圖像以高清實(shí)時視頻形式立即呈現(xiàn)在電腦屏幕上，單次按鍵即可啟動測量。軟件自動計(jì)算接觸角，并同步顯示圖形化結(jié)果與數(shù)值數(shù)據(jù)。僅需1秒的快速測量可避免誤差。德國進(jìn)口接觸角測量儀SURFTENS HL 200 將高重復(fù)性、測量精度與操作便捷性結(jié)合。
技術(shù)參數(shù)
滴液系統(tǒng)
最小液滴體積：0.2μl
滴液分辨率/精度：0.1μl（水）
注射器：玻璃或一次性魯爾鎖注射器
接觸角測量精度
分辨率：0.01°
重復(fù)性：±0.1°（實(shí)時視頻）
精度：±0.1°
軟件
操作系統(tǒng)：Windows
