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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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勻膠機/勻膠旋涂儀

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機

狹縫涂布儀

烤膠機/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機

紫外固化機/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機

等離子清洗機

等離子去膠機

超聲波清洗機

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    膜厚監(jiān)測儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機

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    分光光度計

    點膠機

    噴涂機

    晶圓片

    密度測試儀

    臨界點干燥儀

    光譜儀

    太陽光模擬器

    干燥機

    Norland膠水

    真空回流焊爐

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    切割機

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機

    恒電位儀

    源測量單元

    太陽能電池IV測試系統(tǒng)

    太陽模擬器

    LED測量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    滅菌鍋

    鍍膜設(shè)備

    公司信息

    聯(lián)人:
    鄧經(jīng)理
    話:
    4008800298
    機:
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
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    化:
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    [供應(yīng)]NANO-Diener 等離子去膠機
    NANO-Diener 等離子去膠機
    貨物所在地:
    北京北京市
    產(chǎn)地:
    美國
    更新時間:
    2025-03-19 09:11:52
    有效期:
    2025年3月19日--2025年9月16日
    已獲點擊:
    466
    【簡單介紹】等離子體表面處理儀的應(yīng)用范圍:
    * 清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
    * 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
    * 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。
    * 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
    【詳細(xì)說明】

    * 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。
    * 清洗生物芯片、微流控芯片。
    * 清洗沉積凝膠的基片。
    * 高分子材料表面修飾。
    * 牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。
    * 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。 
    小型等離子清洗機 - 低成本等離子處理設(shè)備
    等離子清洗 - 等離子刻蝕 - 等離子去膠 - 等離子活化
    小型等離子清洗機以體積小、成本低、操作簡便等特點廣泛應(yīng)用于科研及小批量生產(chǎn)場合。


    NANO 等離子清洗機
    規(guī)格:W580mm×H650mm×D500mm
    不銹鋼真空艙體:267mm×L420mm(可選裝石英艙體)
    反應(yīng)室容積:約24公升
    氣體供應(yīng):針閥控制型;雙氣體通道;
    射頻發(fā)生器:40kHz/300W,可調(diào)變輸出率 (可選:13.56MHz或2.45GHz)
    真空泵:抽8m3/h;
    托盤:1 件
    控制方式:半自動控制,計時器控制制程時間
    NANO UHP  (直徑240mm,L400mm,18升)
    NANO UHP 等離子機,反應(yīng)室為玻璃材料(不采用不銹鋼)。適用于不易清除痕跡的鉻,鎳和鐵材料。



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