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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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閱讀：113 發(fā)布時(shí)間：2020/11/19
產(chǎn)業(yè)鏈轉(zhuǎn)移的quanqiu大趨勢為中國大陸集成電路行業(yè)的發(fā)展提供了新機(jī)遇。
diyi次產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移（美國→日本）：技術(shù)、利潤含量較低的封裝測試環(huán)節(jié)。
第二次產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移（日本→韓國、中國臺(tái)灣）：集成電路精細(xì)化分工。
第三次產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移（韓國、中國臺(tái)灣→中國大陸）：第三階段轉(zhuǎn)移為產(chǎn)業(yè)規(guī)模。
據(jù)第三方統(tǒng)計(jì)，至2022年quanqiu光刻膠市場規(guī)模將超過100億美元。
受益于半導(dǎo)體、顯示面板、PCB產(chǎn)業(yè)東移的趨勢，2019年中國光刻膠市場本土企業(yè)銷售規(guī)模約70億元，quanqiu占比約10%，發(fā)展空間巨大。目前，中國本土光刻膠以PCB用光刻膠為主。
光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對(duì)光敏感的混合液體。在紫外光等光照或輻射下，溶解度會(huì)發(fā)生變化的薄膜材料。
按曝光波長，可主要分為G-line、I-line、KrF、ArF d&ArF i、EUV等光刻膠。
在大規(guī)模集成電路的制備中，光刻膠要通過預(yù)烘、涂膠、前烘、對(duì)準(zhǔn)、曝光、后烘、顯影和蝕刻等環(huán)節(jié)，將光罩（掩膜版）上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。
光刻膠是集成電路制造的重要材料，光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關(guān)鍵因素。
光刻工藝的成本約為整個(gè)芯片制造工藝的35%，并且耗時(shí)約占整個(gè)芯片工藝的40%-50%。光刻膠材料約占IC制造材料總成本的4%，市場巨大。
